Show simple item record

dc.contributor.authorThị Việt Bắc, Phùng
dc.contributor.authorBá Lịch, Phạm
dc.contributor.authorVăn An, Đình
dc.date.accessioned2023-03-27T04:57:25Z
dc.date.available2023-03-27T04:57:25Z
dc.date.issued2021
dc.identifier.citation- Nguồn trích: Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - Số báo: 63 - Thời gian: 8.2021 - Số trang: 1-8en_US
dc.identifier.urihttp://localhost:8080/xmlui/handle/123456789/4490
dc.descriptionfile pdfen_US
dc.description.abstractCơ chế hấp phụ phân tử khí CO trên bề mặt của graphene tự do và graphene đặt trên vật liệu đế α-SiO2 (G/SiO2 ) được nghiên cứu bằng phương pháp mô phỏng lý thuyết hàm mật độ. Kết quả tính toán cho thấy sự hấp phụ khí CO trên bề mặt graphene là hấp phụ vật lý điển hình. Các thuộc tính hấp phụ của khí CO trên graphene tự do và trên G/α-SiO2 như năng lượng hấp phụ, khoảng cách hấp phụ, độ dài đáp ứng đã được tính toán chi tiết. Kết quả cũng cho thấy α-SiO2 là vật liệu đế có thể sử dụng để làm tăng năng lượng hấp phụ của CO trên graphene. Phân tích cấu trúc vùng năng lượng và mật độ trạng thái (DOS) đã giải thích được nguyên nhân xuất hiện khe năng lượng khoảng 51 meV ở điểm Dirac trong graphene do sự tương tác giữa α-SiO2 và graphene làm phá vỡ tính đối xứng của graphene. Sự có mặt của lớp vật liệu đế α-SiO2 làm tăng khả năng dịch chuyển điện tích giữa khí CO và graphene.en_US
dc.language.isovien_US
dc.subjectCảm biến khí độc CO; Graphene; Tính toán mô phỏng DFT; Vật liệu đế α-SiO2en_US
dc.titleNghiên cứu ảnh hưởng của vật liệu đế α-SiO2 đến khả năng hấp phụ khí CO của graphene bằng tính toán mô phỏng lý thuyết phiếm hàm mật độen_US
dc.typeArticleen_US


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record